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玻璃镀膜技术书籍

1 薄膜与表面技术基础理论

1．1 概述

1．2 固体表面介绍

1．2．1 固体材料

1．2．2 固体表面与界面的基本概念

1．2．3 固体表面与界面的区别

1．3 表面晶体学

1．3．1 金属薄膜的晶体结构

1．3．2 理想的表面结构

1．3．3 表面与体内的差异

1．3．4 青洁表面结构

1．3．5 实际表面结构

1．4 表面特征(热)力学

1．4．1 表面力

1．4．2 表面张力与表面自由能

1．4．3 表面扩散

1．5 表面电子学

1．5．1 金属薄膜中的电迁移现象

1．5．2 增强薄膜抗电迁移能力的措施

1．6 界面与薄膜附着

1．6．1 界面层

1．6．2 附着及附着力

1．6．3 固体材料表面能对附着的影响

1．6．4 表面、界面和薄膜的应力

1．6．5 增强薄膜附着力的方法

1．7 金属表面的腐蚀

1．7．1 电化学腐蚀

1．7．2 金属的钝化

1．7．3 全面腐蚀

1．7．4 局部腐蚀

2 真空蒸发镀膜

2．1 概述

2．2 真空蒸发镀膜原理

2．2．1 真空蒸发镀膜的物理过程

2．2．2 蒸发过程中的真空条件

2．2．3 镀膜过程中的蒸发条件

2．2．4 残余气体对膜层的影响

2．2．5 蒸气粒子在基片上的沉积

2．3 蒸发源

2．3．1 电阻加热式蒸发源

2．3．2 电子枪加热蒸发源

2．3．3 感应加热式蒸发源

2．3．4 空心热阴极电子束蒸发源

2．3．5 激光加热蒸发源

2．3．6 电弧加热蒸发源

2．4 特殊蒸镀技术

2．4．1 闪蒸蒸镀法

2：4．2 多蒸发源蒸镀法

2．4．3 反应蒸镀法

2．4．4 三温度蒸镀法

3 真空溅射镀膜

3．1 溅射镀膜原理

3．1．1 溅射现象

3．1．2 溅射机理

3．2 溅射沉积成膜

3．2．1 溅射源

3．2．2 溅射原子的能量与角分布

3．2．3 溅射产额与溅射速率

3．2．4 合金和化合物的溅射

3．2．5 溅射沉积成膜

3．2．6 薄膜的成分与结构

3．2．7 各种粒子轰击效应

3．2．8 溅射沉积速率

3．2．9 薄膜厚度均匀性和纯度

3．3 溅射技术概述

3．4 直流二极溅射

3．5 直流三极或四极溅射

3．6 磁控溅射

3．6．1 磁控溅射工作原理

3．6．2 磁控溅射镀膜的特点

3．6．3 磁控溅射镀膜工艺特性

3．6．4 平面磁控溅射靶

3．6．5 圆柱形磁控溅射靶

3．6．6 传统平面磁控溅射靶存在的问题

3．7 射频(RF)溅射

3．7．1 射频溅射镀膜原理

3．7．2 射频辉光放电特性

3．7．3 射频溅射装置

3．8 非平衡磁控溅射

3．8．1 非平衡磁控溅射原理

3．8．2 非平衡磁控溅射与平衡磁控溅射比较

3．8．3 建立非平衡磁控系统的方法

3．8．4 非平衡磁控溅射系统结构形式

3．8．5 非平衡磁控溅射的应用

3．9 反应磁控溅射

3．9．1 反应磁控溅射的机理

3．9．2 反应磁控溅射的特性

3．9．3 反应磁控溅射工艺过程中的主要问题

3．9．4 解决反应磁控溅射工艺运行不稳定的措施

3．10 中频交流反应磁控溅射

3．10．1 中频交流反应磁控溅射原理

3．10．2 中频双靶反应磁控溅射的特点

3．10．3 中频磁控靶结构形式

3．10．4 中频磁控靶PEM控制

3．11 非对称脉冲溅射

3．12 合金膜的溅射沉积

3．13 铁磁性靶材的溅射沉积

3．13．1 磁控溅射铁磁性靶材存在的问题

3．13．2 磁控溅射铁磁性靶材的主要方法

3．14 离子束溅射

4 真空离子镀膜

4．1 离子镀的类型

4．2 真空离子镀原理及成膜条件

4．2．1 真空离子镀原理

4．2．2 真空离子镀的成膜条件

4．3 等离子体在离子镀膜过程中的作用

4．3．1 放电空间中的粒子行为

4．3．2 离子镀过程中的离子轰击效应

4．4 离子镀中基片负偏压的影响

4．5 等离子镀的离化率与离子能量

4．5．1 离化率

4．5．2 中性粒子和离子的能量

4．5．3 膜层表面的能量活化系数

4．6 离子镀膜工艺及其参数选择

……

5 真空卷绕镀膜

6 化学气相沉积CVD技术

7 离子注入与离子辅助沉积技术

8 ITO导电玻璃镀膜工艺

9 薄膜厚度的测量与监控

10 表面与薄膜分析检测技术

参考文献

镀膜雨刷毁了我的玻璃

现在的市场上，有些商家为了宣传镀膜雨刮器，便夸张的宣传雨刮器已经进入了镀膜时代，新的雨刮器革命等等。镀膜雨刮器有比普通雨刮器有好的地方，但是很容易出现问题，所以不建议购买镀膜雨刮器。镀膜雨刮器耐用性会更好，而且镀膜雨刮器的摩擦力会比较小，在工作的时候基本上是没有声音发出的。但是在安装镀膜雨刷之前需要干刮玻璃10分钟的，长时间干刮就会对玻璃造成损耗，如果玻璃清洗前不干净，上面有小石头、沙子等，前挡风玻璃会被磨花，出现划痕。

有车主在使用镀膜雨刷的时候，发现镀膜雨刷毁了我的玻璃。这是因为镀膜雨刷在前挡风玻璃表面会有一层膜，而膜的主要成分是硅元素。硅元素会跟空气中的尘土发生氧化反应，就会导致前挡风玻璃表面上有一些物质产生，很难掉落。长时间就会造成前挡风玻璃出现不透明、散光，镀膜雨刷就会出现噪音、抖动、模糊的问题，还有可能出现玻璃变黄的现象，镀膜雨刷就很容易毁坏玻璃。

镀膜玻璃去除油膜的方法：

1、采用盐酸和锌粉会跟硅元素发生反应的原理，来对玻璃进行抛光处理，再进行擦拭。擦拭完之后一定要把前挡风玻璃清洗干净，避免锌粉、盐酸残留在玻璃上；

2、用氟化氢蒸汽熏和对前挡风玻璃进行清洗，然后再用氧化铈抛光粉对前挡风玻璃进行抛光处理即可。

镀膜工艺流程

汽车玻璃镀膜的流程：1、汽车清洗→准备工作与镀膜工作→车身吹水→祛除车身瑕疵→活性促进剂处理→遮挡密封处理→镀膜→抛光→交车检查；2、镀膜工艺顺序：冲洗汽车→擦车→祛除柏油→手工砂纸打磨→深切局部研磨→中切局部研磨→微切整车研磨→整车抛光→整车还原→汽车清洗→整车活性促进剂去油→整车增艳；3、整车密封→上镜面光滑剂→凉干→抛药剂→上劲亮树脂→凉干→抛药剂→上氟炭树脂→凉干→手工抛光→上宝石护膜→凉干→抛药剂→封釉→凉干→抛药剂→细部处理→轿车检查。

光学镀膜技术

光学镀膜技术和应用始于19 世纪在20世纪的后50年内，光学镀膜技术得到飞速发展。镀膜的方法有很多种，其中一种就是脉冲激光沉积(PLD) 方法，它是利用激光将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者

PLD作为一种新的先进的成膜技术。与其他工艺相比，生长参数独立可调、可精确控易于实现超薄薄膜的生长和多层膜的制备，生长的薄膜结晶性能很好，膜的PLD技术的成膜效率高，能够进行批量生产，这是它的很大的优势，有望在科研和生产中得到广泛的应用。但是由于等离子体存在中的微粒沉积到薄膜上会降低薄膜的质量，采取相应的措施后可以获得改善，但不能完全消除。PLD方法在厚度均匀等方面也比较困难，从而比较难以进一步提高薄膜的质量。

光学镀膜技术可以应用于制备高阈值激光薄膜领域，高功率激光器是当前强激光领域的研究热点，影响激光系统的功率输出最关键的因素是光学薄膜的激光损伤阈值（LIDT）。影响LIDT的主要因素包括: 高低折射率材料的选择和匹配、镀膜工艺过程和薄膜质量。可以说，性能优异的镀膜材料是得到高LIDT激光薄膜的前提。LIDT激光膜常见镀膜材料是二氧化锆和二氧化铪。

二氧化锆在( ～300nm) 到红外( ～1300nm) 对光不吸收，膜层致密牢固，与SiO2 膜层的匹配性好，但氧化锆最大的缺点是镀膜时不易控制，容易产生喷溅。在制备近紫外( 300nm～和红外( 1064nm) 高LIDT 激光薄膜中得到应用。

二氧化铪光学镀膜材料是一种性能优异的高折射率材料，其透射波段范围包括远紫外（200nm）～到红外( 8000nm) ，在此波段范围内，光吸收、散射都极少，其折射率在波长500nm处为2.0。用电子枪蒸发可以得到致密的氧化铪膜层，该膜层硬度高；与石英玻璃、CaF2 薄膜基底具有较强的附着力，化学物理性能稳定、耐腐蚀性好。HfO2光学镀膜材料是一种性能优异的制备具高LIDT 激光膜的材料。但在自然界，Zr 与Hf 伴生，两者的化学性能非常接近，它们之化学性能非常接近，他们之间的深度分离一直是技术难题。在紫外波段，Zr 的存在严重影响薄膜的性能。从光学性能

二氧化锆的透射波段不能到250nm 以下，在250nm以下紫外波段有明显吸收，而且在此波段，二者折射率相差较大( HfO2 的折射率是1. 95，ZrO2的折射率是2. 04)；另外，两SiO2的匹配作用相反，因此氧化锆的存在破坏膜层的性能。从物理化学性能看，HfO2比ZrO2稳定得多。通常情况下，不含稳定剂的纯ZrO2热力学不稳定，在摩擦、受热、压力等条件下容易发生相变，相变的同时伴随体积的变化。因此低ZrO2含量HfO2膜料是制备具有高LIDT的紫外强激光薄膜的关键。

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